CMP拋光液
一、應(yīng)用領(lǐng)域
硅片、硬盤基片、二氧化硅、藍寶石、精密光學器件等的拋光。
二、產(chǎn)品特點
1.經(jīng)特殊工藝合成的化學機械拋光液，納米顆粒呈球形，單分散，大小均勻，粒徑分布窄，可獲得高質(zhì)量的拋光精度。
2.納米顆粒硬度適中，既可獲得高拋光速率，又能減少表面劃傷。
3.粒度可控，可根據(jù)客戶需要，定制不同粒度的產(chǎn)品（10-150 nm）。
三、性能指標
型號及標準：CMP20、 CMP30、CMP50、CMP100
粒徑大小(nm)：10-30、 20-40、40-70、90-120
SiO2含量：30±1%
pH值：10-12
外觀：透明至乳白液體
保質(zhì)期(月)：≥12
四、使用方法
1.可根據(jù)拋光操作條件用去離子水進行5-20倍稀釋。
2.稀釋后，粗拋時調(diào)節(jié)pＨ至11左右，精拋時調(diào)節(jié)pH至9.5左右。pH調(diào)節(jié)可以用10%的鹽酸、醋酸、檸檬酸、KOH或氨水在充分攪拌下慢慢加入。
3.循環(huán)拋光可以用原液。
五、包裝及儲存
1．采用聚乙烯塑料桶包裝，主要包裝規(guī)格有30Kg、250Kg。
2．貯存時應(yīng)避免曝曬，貯存溫度為0-40℃。
3．避免敞口長期與空氣接觸。
山東百特新材料有限
公司（http://www.88better.cn)（聯(lián)系方式：0539-7261166，傳真：0539-7261188。銷售部：趙鳳熙 151 655 08089）
