概述:
電子芯片清洗用超純水設(shè)備主要由超濾設(shè)備、反滲透設(shè)備、離子交換設(shè)備、EDI裝置等組合而成。
電子芯片清洗用超純水設(shè)備工藝流程:原水→增壓泵→石英砂過(guò)濾器→活性碳過(guò)濾器→保安過(guò)濾器→一級(jí)高壓泵→一級(jí)反滲透系統(tǒng)→中間水箱(PH調(diào)節(jié))→二級(jí)高壓泵→二級(jí)反滲透系統(tǒng)→純水箱→純水泵→UV裝置→0.2um精濾器→EDI裝置→用水點(diǎn)
設(shè)備特點(diǎn):
1.脫鹽率大于99.9%,效率遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于兩級(jí)反滲透和單純的離子交換。
2.較傳統(tǒng)的離子交換法脫鹽節(jié)約樹(shù)脂95%以上。
3.離子交換樹(shù)脂不需使用酸堿再生,節(jié)約大量酸堿和清洗用水,降低勞動(dòng)強(qiáng)度。
4.清潔生產(chǎn),無(wú)廢水處理問(wèn)題,利于環(huán)保。
5.自動(dòng)化程度高,易維護(hù),可設(shè)計(jì)成完善的膜技術(shù)高純水生產(chǎn)線。
6.產(chǎn)水電阻率15-18MΩ.cm。
7.占地面積小,單一系統(tǒng)連續(xù)運(yùn)轉(zhuǎn),不需建設(shè)備用系統(tǒng)。
8.操作維護(hù)簡(jiǎn)單。
9.運(yùn)行費(fèi)用及維修成本低。
10.無(wú)酸堿儲(chǔ)備及運(yùn)輸費(fèi)用。
11.全自動(dòng)運(yùn)行,無(wú)需專(zhuān)人看護(hù)。
可源電子芯片清洗用超純水設(shè)備制水過(guò)程高度自動(dòng)化,自動(dòng)進(jìn)水,自動(dòng)制水,純水箱滿水自動(dòng)停機(jī),用水后自動(dòng)恢復(fù),可完全實(shí)現(xiàn)無(wú)人值守的運(yùn)行,出水水質(zhì)滿足工業(yè)清洗行業(yè)用水標(biāo)準(zhǔn)。